快科技9月3日消息，ASMLEUV光刻机光学元件独家供应商、德国蔡司集团半导体事业负责人FrankRohmund近日接受采访时表示，中国要开发出EUV光刻机大约还需要15年。
ASML是目前全球唯一能制造EUV光刻机的企业，而EUV技术是生产英伟达AI加速器等最先进芯片不可或缺的关键技术。美国已禁止ASML向中国出口EUV设备和部分先进的浸润式DUV光刻机，美国国会议员也在持续推动出口管制扩展至所有DUV光刻机。对于美国祭出的无理的出口管制措施，Rohmund明确表示，若未来进一步扩大至传统DUV设备，将对产业造成不利影响。蔡司方面也承认，中国在浸润式DUV光刻机领域已取得进展。Rohmund表示，中国已投入相关技术研发数十年，因此中国近期取得进展并不令人意外。
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希望本篇文章《蔡司高管：制裁倒逼技术突围，中国15年内有望造出EUV光刻机》能对你有所帮助！
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